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薄膜器件如何选择

发布时间:

2022/08/04 21:02

通过插入一个有机层来设计钙钛矿薄膜内部的应变,并给出无张力器件表现出更高的器件性能和操作稳定性的结论。

半导体器件和电路在半导体材料晶圆的表层形成。而晶圆制备包括衬底制备和外延工艺两大环节。衬底是由半导体单晶材料制造而成的晶圆片。外延则是指在经过切、磨、抛等仔细加工的单晶衬底上生长一层新单晶薄膜的过程。新单晶薄膜可以与衬底为同一材料,也可以是不同材料。而第三代和第四代半导体器件几乎都做在外延层的单晶薄膜上,这层薄膜的质量、均匀度等参数直接决定着器件的各项电学性能。

(2)器件的微小型化不仅可以保持器件原有的功能并使之更加强化,而且随着器件的尺寸减小并接近了电子或其他粒子量子化运动的微观尺度,薄膜材料或其器件将显示出许多全新的物理现象。薄膜技术作为器件微型化的关键技术,是制备这类具有新型功能器件的有效手段。

其中单层阻液纳米薄膜。主要适用于整机或外部器件的生活防水应用场景,例如各类电子产品整机(如手机整机、耳机整机、耳机充电盒整机等)及电子产品外部器件(如音响罩)。

随5G应用越来越广泛,对柔性基板性能要求提高,PET薄膜已无法满足使用要求。柔性印刷电路板用基材需要在一定高温下薄膜受热时具有较小的热收缩,因此PEN可用作柔性印刷电路板用基材,以及其他光电材料的衬底。例如,可作为承载有机电致发光器件OLED的柔性衬底,用作磁控溅射复合材料的基底。PEN薄膜较PET薄膜刚性、耐热性、阻隔性都有所提高,透明度高且成本较PI薄膜低。PEN薄膜在柔性印刷线路板应用前景广阔。

化铪(HfO2)金属氧化物薄膜材料是应用于激光系统光学器件中最常用的高折射率薄膜材料之一,常常采用高折射率的HfO2和低折射率的oxide组合,用来制备高反膜,增透膜,偏振膜和滤光片等各种光学薄膜,在近紫外到红外区

研究发现,Y6缓冲层的引入可以显著减少SnO2在柔性衬底上弯曲过程中裂纹的形成,缓解钙钛矿薄膜在结晶过程中的残余应力,不仅提高了器件性能,而且降低了器件的结晶速率。同时也大大提高了机械弯曲和耐久性。研究结果表明,在FPSC中加入基于非富勒烯有机半导体的缓冲层是一种很有前景的同时提高器件性能和机械鲁棒性的途径。

研究人员展示了在锗(Ge)衬底上利用石墨烯作为中间层的BTO薄膜的高度异质外延生长。该研究一方面丰富了薄膜外延生长领域的基础理论,另一方面展示了在晶圆级半导体衬底和柔性衬底上集成功能性氧化物薄膜可能性,这对于未来和柔性功能器件的实现有重要意义。

压电陶瓷薄膜材料有着出色的机电耦合性质,被广泛研究并应用于声表面波器件,超声波器件,能量收集器,传感器和执行器等领域。由于薄膜材料与MEMS工艺的高度契合性,关于高质量压电薄膜的制备大多聚焦于硅片、蓝宝石等刚性平面基底上,以适应后续复杂的刻蚀、镀膜、封装工艺。随着工艺的不断进步,当今电子设备的构型往往不再局限于平面2D结构,而向着柔性、三维曲面的方向发展,这对传统陶瓷薄膜材料的制备带来了新的挑战:如何在复杂物体表面获得不破裂、高性能的薄膜材料呢?

等离子体刻蚀设备、薄膜沉积设备与光刻机是制造集成电路、LED芯片等微观器件的最关键设备,主要从事刻蚀机和薄膜沉积设备的研究生产销售。

在半导体制程进入28nm后,由于器件结构不断缩小且更为3D立体化,生产过程中需要实现厚度更薄的膜层,以及在更为立体的器件表面均匀镀膜。在此背景下,技术凭借优异的三维共形性、大面积成膜的均匀性和精确的膜厚控制等特点,技术优势愈加明显,在半导体薄膜沉积环节的市场占有率也将持续提高。

天眼查APP显示,是一家精密光电薄膜元器件制造商。其主要产品有数码摄像系统中的红外截止滤光片及镜座组件、触摸屏、光纤镀膜、低通滤波器等产品的精密光学光电子薄膜元器件。公司拥有国内规模领先、工艺技术能力达到国际先进水平的精密光学光电子薄膜元器件生产线。

与纯3D对应物相比,2D-3D混合卤化锡钙钛矿是无铅钙钛矿太阳能电池(PSC)的优秀候选材料,因为它们具有更高的稳定性和更低的陷阱密度。然而,多相的混合可能导致薄膜间的电荷转移不良并限制器件效率。

,则利用剥离与键合转移技术,突破晶格失配等问题,将亚微米厚度的单晶铌酸锂薄膜从铌酸锂晶圆剥离并转移到高声速、高导热的碳化硅(SiC)晶圆,首次制备了4英寸Ln/SiC压电异质衬底,可实现更有效的声波能量和电场能量约束、提高器件散热、降低器件热膨胀,从而显著提高射频声波器件性能与设计自由度。基于该衬底制备的高频器件,突破了传统SAW器件的频率限制。有望应用于5GN77和N79频段。

将该薄膜覆盖于电子器件热源,薄膜内部水分会快速蒸发并迅速带走热量,降低热源温度。当电子器件不工作时,薄膜可自发从四周环境中吸收水蒸气,补充自身水分,实现

在研究员带领下,该所有机光电材料与器件团队实现了高延展性活性层薄膜的制备,固化的薄膜形态也提高了器件的热储存稳定性。日前,相关成果发表于。

然后采用喷墨打印的方式制备了红光钙钛矿量子点器件,使用添加聚丁烯的钙钛矿量子点墨水,可以有效抑制咖啡环现象,使得薄膜形貌和器件性能都得到提升,如图5。

化学气相沉积(CVD)技术是用来制备高纯、高性能固体薄膜的主要技术。在典型的CVD工艺过程中,把一种或多种蒸汽源原子或分子引入腔室中,在外部能量作用下发生化学反应并在衬底表面形成需要的薄膜。所以化学气相沉积(CVD)设备也就成为半导体器件制造当中的核心设备。

公司2020年实现总营收亿,同比增长。公司是内资控股同类企业中市场规模最大的企业,也是中国领先的光电显示薄膜器件生产和整体解决方案提供商。公司主要产品包括光电显示薄膜器件,以及隔热减震类制品和精密模切设备等。光电显示薄膜器件按照特性又可细分为光学膜片、胶粘类制品、绝缘类制品,主要应用于液晶显示背光模组和液晶显示模块中。公司凭借先进的技术与可靠的质量赢得了三星、、等光电领域国际知名企业的信赖并建立了业务合作关系,为其提供光电显示薄膜器件产品。

告诉记者。

作者进一步探索了本添加剂对薄膜和器件长期稳定性的影响。作者记录了具有四种不同添加剂组合物的新制备的薄膜的吸收光谱,并与在干燥氮气中在黑暗条件下储存3个月后薄膜进行比较。结果验证了在惰性条件下NaBH4积极参与储存的薄膜的长期稳定性。

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